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等离子清洗机引入真空环境的两个主要原因

更新时间:2021-07-01   点击次数:51次
  学过初中物理的人都知道,不管什么物体都是由一个一个的分子组成的,然而,分子又是由离子组成的,在宇宙世界里面,多数物体还没在变成分子,甚至99%的东西都是以离子或者能量的形式存在。平时有纪录片里面看到的各种星云团,实际上主要组成物质都是离子、暗能量、暗物质这些东西。
  当然在平时的生活中,平时眼睛看的到的物质只有3种形态,固态、液态和气态。当然如果借助各种仪器,就可以看到物质其实还有很多种形态,比如离子。
  等离子清洗机分为真空和非真空两种类型,非真空就是大气压,或者常压等离子清洗机,非真空的等离子清洗机,主要用来清洗平面的物体,像手机玻璃盖板,或者一些小范围的清洗。
  等离子清洗机为什么需要引入真空环境,原因有很多,不过简单的来讲主要有有两个原因:
  引入真空室的气体在压力环境下不会电离,在充入气体电离产生等离子体之前必须达到真空环境。另外,真空环境允许我们控制真空室中气体种类,控制真空室中气体种类对等离子处理体过程的可重复性是至关重要的。
  要进行等离子处理产品,首先我们产生等离子体。首先,单一气体或者混合气体被引入密封的低压真空等离子体室。随后这些气体被两个电极板之间产生的射频(RF)激活,这些气体中被激活的离子加速,开始震动。这种振动“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
  在处理过程中,等离子体中被激活的分子和原子会发出紫外光,从而产生等离子体辉光。温度控制系统常用于控制刻蚀速率。60-9d摄氏度温度之间刻蚀,是室温刻蚀速度的四倍。对温度敏感的部件或组件,等离子体蚀刻温度可以控制在15摄氏度。我们所有的温度控制系统已经预编程并集成到等离子体系统的软件中间。设置保存每个等离子处理的程序能轻松复制处理过程。
  可以通过向等离子体室中引入不同气体,改变处理过程。常用的等离子处理器体包括02、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多数实验室,基本上都使用这五种气体单独或者混合使用,进行等离子体处理。
  等离子体处理过程通常需要大约两到十分钟。当等离子体处理过程完成时,真空泵去除等离子室中的污染物,室里面的材料是清洁,消过毒的,可以进行粘接或下一步程序。
  等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下形成的物质。等离子清洗/刻蚀形成等离子体的装置是在密封容器中设定2个电极形成电磁场,用真空泵实现一定的真空度,随之气体愈来愈稀薄,分子间距跟分子或离子的自由运作距离也愈来愈长,受磁场的作用,发生碰撞而构成等离子体,与此同时会发生辉光。等离子体在电磁场内的空间运作,并轰击被处置物体的表面,进而做到表层处理、清理和刻蚀的实际效果。
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