等离子清洗机中的等离子体与自然界产生的等离子体本质上是一样的，是区别于固体、液体和气体的另一种物质聚集态，人们称之为物质存在的第四种状态。它由电离的导电气体组成，其中包括六种典型的粒子，即电子、正离子、负离子、激发态的原子或分子、基态的原子或分子以及光子。
等离子清洗机的原理：
由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易与固体表面发生反应。等离子体清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。
就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
等离子可以被定义为部分或全部电离的气体。有数量粗略相等的正电荷粒子和负电荷粒子。等离子体是采用高电压，高温电弧人工产生的，高温电弧是电晕放电过程以及用来蒸发和再沉积金属的等离子体焰炬的基础。
