我们一说到
等离子清洗机，大家首先会想到技术比较成熟的设备，主要分为电容耦合设备(CCP)和电感耦合设备(ICP)，而微波设备相对比较少见。但随着近年来国内半导体产业和新材料等领域的迅猛发展，微波等离子体表面处理技术也越来越受到重视。
工业应用的微波清洗机一般都属于表面波型，其工作模式是通过辐射微波电磁场直接将气体击穿实现放电，一般要求放电气压高，因为没有离子的加速作用，其电子密度较高，对于有机物的去除和材料表面活化的效率是比较高的。
下面的进入正题，等离子清洗机与超声波清洗机的主要区别到底在哪里呢？
1、主要区别等离子清洗是干式清洗，超声波清洗是湿法清洗，在经过等离子清洗以后，被清洗物体已经很干燥，不必再经干燥处理即可送往下道工序。
2、等离子清洗在完成清洗去污的同时，还能改变材料本身的表面性能，如提高表面的润湿性能，改善膜的附着力等，这在许多应用中都是非常重要的。
3、虽然该设备表面上比超声波清洗机更加智能化，但是还有很多缺点需要提示，比如放电气压高带来的问题是等离子体局域化比较严重，纵深清洗比较差，不利于多层面的大尺度的清洗处理，而且微波电磁场对电子元器件多少会有一定电磁辐射作用，有可能会造成电子元器件的击穿损伤，最后就是设备造价高，维修保养不是很方便。
